砷化鎵(GaAs)用於射頻領域之專利觀測
  • 1079
  • 出版日期
    05月20日, 2020
  • 作者
前言

砷化鎵是三五族半導體中發展相對成熟的化合物半導體材料,特性包含具備高電子遷移率、寬能隙、發光效率高、支持高頻、低雜訊、高效率及低耗電等。涉及的應用領域除了作為LED、雷射光元件、太陽能光電元件外,最主要的應用為通訊射頻領域,尤其用於高速、高頻射頻元件。雖然砷化鎵應用於射頻領域由來已久,但從專利觀察發現,近5年累積申請狀態逐漸成長。本報告將針對砷化鎵應用於射頻領域近20年之專利申請狀態,觀察前三大專利權人之專利申請,進一步分析其布局。

目錄
    砷化鎵應用於射頻之背景介紹
    砷化鎵應用於射頻之專利分析
    砷化鎵應用於射頻之主要廠商專利布局
    結論
    附錄
圖目錄
    圖一、砷化鎵示意圖
    圖二、砷化鎵主要應用領域
    圖三、砷化鎵材料於各主要應用領域之市場比重
    圖四、砷化鎵適合高頻高功率環境
    圖五、不同製程的砷化鎵適合不同射頻應用領域之產品
    圖六、砷化鎵應用於射頻歷年專利申請數
    圖七、砷化鎵應用於射頻主要專利申請國(前20名)
    圖八、砷化鎵應用於射頻主要專利申請人(申請數排名前20)
    圖九、砷化鎵應用於射頻領域專利之CPC分類TOP 20
    圖十、三大專利申請權人於砷化鎵應用於射頻之專利申請動向
    圖十一、三大專利權人之「砷化鎵應用於射頻」專利CPC類別
    圖十二、Skyworks技術與產品組合
    圖十三、Skyworks在砷化鎵應用於射頻領域之專利布局
    圖十四、Qorvo在砷化鎵應用於射頻領域之專利布局
    圖十五、Qualcomm在砷化鎵應用於射頻領域之專利布局
表目錄
    表一、砷化鎵分子結構特性
    表二、砷化鎵應用特性
    表三、砷化鎵應用於射頻之專利檢索設定
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